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梁栋程

作品数:2 被引量:4H指数:1
供职机构:四川大学材料科学与工程学院材料科学系更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇单晶
  • 1篇单晶生长
  • 1篇单晶体
  • 1篇晶体
  • 1篇化学腐蚀
  • 1篇安瓿
  • 1篇XRD分析

机构

  • 2篇四川大学

作者

  • 2篇陈宝军
  • 2篇朱世富
  • 2篇赵北君
  • 2篇何知宇
  • 2篇梁栋程
  • 1篇孙永强
  • 1篇徐婷
  • 1篇范强
  • 1篇张羽
  • 1篇程江

传媒

  • 2篇人工晶体学报

年份

  • 2篇2010
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
ZnGeP_2单晶生长与安瓿设计研究被引量:1
2010年
根据晶体自发成核几何淘汰规律,结合ZnGeP2晶体的结晶习性,研究设计出生长完整ZnGeP2单晶体的双层镀碳石英安瓿,其关键技术参数为:安瓿长径比6~7,籽晶袋长度≥25mm,安瓿主体与籽晶袋之间的放肩角在25°左右。在上述生长安瓿中,采用改进的垂直布里奇曼法,分段控制下降速率,成功生长出尺寸为22mm×40mm的ZnGeP2单晶。对晶体进行X射线分析,获得(204)面单晶衍射谱和回摆谱,衍射峰峰形尖锐无劈裂,回摆谱对称性好,半峰宽为0.063°;晶片在2~12μm波段范围内的红外透过率达50%以上。实验结果表明,研究设计的生长安瓿适合于磷锗锌单晶生长,能够获得较高质量的单晶体。
梁栋程赵北君朱世富陈宝军何知宇范强徐婷
关键词:XRD分析
磷锗锌单晶体的腐蚀研究被引量:3
2010年
报道了一种新的ZnGeP2晶体择优腐蚀剂及其腐蚀工艺,即先采用研磨、物理机械抛光和HCl+HNO3热化学抛光获得表面平整无划痕的ZnGeP2晶片,然后将晶片在室温下采用HF(40%)∶HNO3(65%)∶CH3COOH(99.5%)∶H2O∶I2=2 mL∶2 mL∶1 mL∶1 mL∶4 mg腐蚀剂超声振荡腐蚀8 min;在扫描电镜下观察到ZGP(110)和(204)晶面的腐蚀坑,蚀坑形貌清晰,具有立体感,(110)晶面蚀坑呈四边形,(204)晶面蚀坑呈五边形,取向一致,蚀坑密度(EPD)约为104/cm2。从理论上对蚀坑形貌的形成机理进行了分析。
张羽赵北君朱世富陈宝军何知宇孙永强程江梁栋程
关键词:化学腐蚀
共1页<1>
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