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史讯

作品数:2 被引量:3H指数:1
供职机构:中国科学院上海硅酸盐研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇第一性原理
  • 1篇散射过程
  • 1篇声子
  • 1篇热电材料
  • 1篇相变
  • 1篇相变过程
  • 1篇方钴矿
  • 1篇COSB
  • 1篇GA

机构

  • 2篇中国科学院
  • 1篇华盛顿大学

作者

  • 2篇史讯
  • 1篇杨炯
  • 1篇张文清
  • 1篇席丽丽
  • 1篇陈立东
  • 1篇陈立东
  • 1篇杨继辉
  • 1篇陈弘毅

传媒

  • 1篇中国材料进展

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2015
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
CoSb_3基方钴矿化合物的Ga,In掺杂及相关复杂缺陷的研究被引量:3
2015年
通过第一性原理与热力学结合的方法,研究了Ga,In等掺杂的Co Sb3基方钴矿化合物中的复杂缺陷问题。详细计算了Ga,In在Co Sb3中填充,Co,Sb位置替换以及填充-替换同时共存等缺陷的形成能。研究结果表明,缺陷形成能与费米能级、化学势等相关。Ga,In等在方钴矿中不是单纯的填充,而是填充和Sb位置替换同时共存的复杂缺陷。Ga掺杂以填充-替换比例2∶1的缺陷为主,而In掺杂,根据不同的条件可形成填充,替换,以及不同比例的填充替换复合缺陷,其中尤其以4∶2和2∶1最多。根据巨正则系宗,研究了Ga,In掺杂系统的载流子浓度和各缺陷的浓度。发现Ga,In掺杂的方钴矿由于填充和替换电荷的自补偿效应,其载流子浓度较低,尤其是Ga填充,具有类似本征半导体的低载流子浓度,且得到实验证实。In掺杂系统由于填充替换的比例偏离2∶1,填充位置的In比Ga的稍高一些,因此具有比Ga掺杂更高的载流子浓度。
席丽丽邱雨婷史讯杨炯陈立东杨继辉张文清
关键词:方钴矿第一性原理热电材料
Cu2Se相变过程中临界声子散射过程的研究
陈弘毅史讯陈立东
共1页<1>
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