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董立军

作品数:55 被引量:40H指数:4
供职机构:中国科学院微电子研究所更多>>
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49 条 记 录,以下是 1-10
陈大鹏
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:半导体器件 刻蚀 MEMS 沟道 焦平面阵列
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叶甜春
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:X射线光刻 沟道 半导体器件 版图 衬底
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欧毅
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氮化硅薄膜 刻蚀 MEMS 牺牲层 微机电系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
殷华湘
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:半导体器件 沟道 栅极 衬底 鳍片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵超
供职机构:清华大学
研究主题:半导体器件 衬底 栅极 沟道 金属硅化物
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王玉光
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氧化物半导体 非晶态 沟道 衬底 X射线探测器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
景玉鹏
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:硅片 气敏传感器 光刻胶 刻蚀 临界态
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
石莎莉
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:硅衬底 控制部件 氮化硅薄膜 牺牲层 刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩敬东
供职机构:中国科学院
研究主题:X射线光刻 LPCVD 氮化硅 掩模 氮化硅膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨清华
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:掩模 硅衬底 微电子 MEMS 浮栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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