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文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇单晶
  • 2篇电阻率
  • 2篇少子寿命
  • 2篇硅单晶
  • 2篇辐照
  • 1篇导电类型
  • 1篇电学
  • 1篇电阻率变化
  • 1篇载流子
  • 1篇载流子寿命
  • 1篇锗单晶
  • 1篇整流
  • 1篇少数载流子
  • 1篇少数载流子寿...
  • 1篇中子
  • 1篇中子辐照
  • 1篇校准方法
  • 1篇禁带
  • 1篇禁带宽度
  • 1篇光注入

机构

  • 4篇中国电子科技...

作者

  • 4篇张继荣
  • 3篇佟丽英
  • 2篇史继祥
  • 1篇薛佳伟
  • 1篇邢友翠
  • 1篇李亚帅
  • 1篇王俭峰
  • 1篇戚红英

传媒

  • 3篇半导体技术

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2010
  • 2篇2005
5 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
DLY-2型P-N导电类型鉴别仪校准方法
文章对DLY-2型P-N导电类型鉴别仪的原理、结构及计量特性进行了阐述,给出了校准P-N导电类型鉴别仪的方法,并对本仪器校准结果进行了处理。
张继荣
关键词:导电类型半导体材料
γ辐照对硅单晶电学参数的影响被引量:7
2005年
对CZ(直拉法)和FZ(区熔法)硅单晶进行了一定剂量的γ辐照实验,并将辐照前后的电学参数变化进行了对比。结果表明,在实验中所用剂量的γ辐照,对CZ和FZ硅单晶电阻率影响不大,而对其少子寿命影响很大。
张继荣史继祥佟丽英
关键词:Γ辐照硅单晶电阻率少子寿命
中子辐照CZ硅单晶热处理后的电阻率变化被引量:2
2005年
CZ 硅单晶受中子辐照,产生辐照缺陷,使其电阻率相对于其原始值有一定的偏差,经氮气气氛、650 ̄700℃热处理,其电阻率可以基本恢复原始值。
张继荣薛佳伟佟丽英
关键词:硅单晶电阻率辐照
高频光电导衰减法测试Ge单晶少数载流子寿命被引量:2
2010年
高频光电导衰减法是测量Ge单晶少数载流子寿命常用的方法,高频脉冲信号照射到单晶表面时,产生非平衡载流子,非平衡载流子的复合时间长短反映了少数载流子寿命的大小。电阻率越低,少数载流子寿命越小,仪器就难以测试。介绍了电阻率为0.03~0.04Ω.cm Ge单晶少数载流子寿命的测试方法。通过理论分析及实际测试,发现影响Ge单晶测试的主要因素有3个,即样品的表面状态、厚度及测试仪器的小注入水平。通过规范这些测试条件,能够测试低阻Ge单晶的少数载流子寿命。
佟丽英王俭峰史继祥张继荣邢友翠戚红英李亚帅
关键词:锗单晶禁带宽度光注入少子寿命
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