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姚海平

作品数:6 被引量:4H指数:1
供职机构:复旦大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术自动化与计算机技术电气工程更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 6篇铁电
  • 5篇铁电薄膜
  • 3篇存储器
  • 2篇钙钛矿结构
  • 2篇PZT
  • 2篇PZT铁电薄...
  • 2篇SOL-GE...
  • 1篇电器件
  • 1篇铁电存储器
  • 1篇铁电器件
  • 1篇退火
  • 1篇退火温度
  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇刻蚀
  • 1篇反应离子
  • 1篇反应离子刻蚀
  • 1篇MFIS

机构

  • 6篇复旦大学

作者

  • 6篇姚海平
  • 5篇汤庭鳌
  • 5篇钟琪
  • 4篇黄维宁
  • 4篇姜国宝
  • 3篇程旭
  • 3篇颜雷
  • 2篇洪晓菁
  • 1篇汤祥云
  • 1篇虞惠华
  • 1篇俞承芳

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇微电子学
  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇第二届海内外...

年份

  • 3篇2000
  • 3篇1999
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
集成铁电电容的制备和研究被引量:1
1999年
给出了一种在CMOS电路基础上制备集成铁电电容的方法。
姚海平钟琪黄维宁姜国宝洪晓菁汤庭鳌
关键词:铁电薄膜存储器
铁电存储单元的设计和测试被引量:2
1999年
基于被应用于实际设计之中的统一的铁电器件模型,详细讨论了2T2C组态的铁电破坏性读出存储器单元的设计。在此基础上,设计和制造了分立元件的单元测试电路。通过与普通电容的对比实验,证实了铁电破坏性读出随机读取存储器与普通随机读取存储器不同的工作原理和模式。进而获得了被测FRAM单元的特性波形和铁电材料存储特性的有关数据。这些工作为进一步进行大规模铁电存储器的研究作了准备。
洪晓菁俞承芳虞惠华汤庭鳌姚海平李宁钟琪
关键词:存储器铁电器件
铁电薄膜制备、特性及集成铁电电容制备技术研究
姚海平
关键词:铁电薄膜
SOL-GEL方法制备PZT铁电薄膜新方法及铁电特性研究
2000年
我们用SOL-GEL方法对PZT的制备进行了深入细致的研究,PZT薄膜不同组分的加入顺序对铁电特性的影响较小,而精确地控制PZT铁电薄膜的组分是制备性能良好的铁电薄膜的关键,铁电薄膜的退火条件对铁电薄膜特性有着至关重要的影响.我们运用将Zr及Ti有机物溶液加入Pb的有机溶液的新的制备工艺流程以精确地控制Pb/Zr/Ti的组分,从而制备出性能良好的铁电薄膜.在大量实验的基础上,我们绘制出扩散炉和快速热退火时,钙钛矿的形成与退火温度及时间的关系图,并且得出PZT铁电薄膜最佳的退火温度和时间区域.
颜雷汤庭鳌黄维宁姜国宝程旭姚海平钟琪
关键词:SOL-GELPZT钙钛矿结构
用于MFIS的铁电薄膜刻蚀技术研究被引量:1
2000年
制备MFIS存储器的铁电薄膜一般选用抗疲劳特性好的SBT铁电薄膜,介质层一般选用ZrO2作为阻挡层,以克服电荷注入效应,改进器件的性能。在MFIS的研制中,SBT薄膜和ZrO2薄膜的刻蚀是关键工艺之一。研究了用SF6和Ar作为反应气体刻蚀SBT及ZrO2薄膜的方法,对不同条件下SBT和ZrO2的刻蚀速率进行了实验研究和讨论、分析,得到了刻蚀SBT及ZrO2的优化工艺条件。
颜雷黄维宁姜国宝汤庭鳌程旭钟琪姚海平汤祥云
关键词:铁电存储器反应离子刻蚀铁电薄膜
SOL-GEL方法制备PZT铁电薄膜新方法及铁电特性研究
我们用SOL-GEL方法对PZT的制备进行了深入细致的研究,PZT薄膜不同组分的加入顺序对铁电特性的影响较小,而精确地控制PZT铁电薄膜的组分是制备性能良好的铁电薄膜的关键,铁电薄膜的退火条件对铁电薄膜特性有着至关重要的...
颜雷汤庭鳌黄维宁姜国宝程旭姚海平钟琪
关键词:SOL-GELPZT钙钛矿结构铁电薄膜退火温度
文献传递
共1页<1>
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