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张凯

作品数:15 被引量:18H指数:2
供职机构:湖北大学更多>>
发文基金:武汉市科技攻关计划项目国家自然科学基金湖北省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术理学电气工程更多>>

文献类型

  • 11篇期刊文章
  • 4篇会议论文

领域

  • 10篇电子电信
  • 5篇一般工业技术
  • 2篇电气工程
  • 2篇理学

主题

  • 10篇谐振器
  • 7篇体声波
  • 7篇体声波谐振器
  • 7篇ALN
  • 6篇氮化铝
  • 6篇薄膜体声波谐...
  • 6篇ALN薄膜
  • 5篇氮化
  • 3篇压电
  • 3篇压电层
  • 3篇制备及性能
  • 3篇声谐振
  • 3篇频率特性
  • 3篇空腔
  • 3篇溅射
  • 3篇薄膜腔声谐振...
  • 3篇磁控
  • 2篇氮化铝薄膜
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇电子技术

机构

  • 15篇湖北大学
  • 2篇武汉理工大学

作者

  • 15篇顾豪爽
  • 15篇张凯
  • 12篇胡光
  • 4篇叶芸
  • 4篇刘婵
  • 4篇吴小鹏
  • 4篇李位勇
  • 4篇吴雯
  • 4篇胡宽
  • 3篇熊娟
  • 3篇胡明哲
  • 2篇徐丹丹
  • 2篇陈丽丽
  • 2篇胡靖华
  • 2篇张小玲
  • 2篇孙晓冬
  • 1篇谢艳

传媒

  • 3篇湖北大学学报...
  • 2篇武汉理工大学...
  • 1篇Journa...
  • 1篇四川大学学报...
  • 1篇功能材料
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇压电与声光
  • 1篇电子元件与材...
  • 1篇第六届中国功...
  • 1篇第十四届全国...
  • 1篇第十一届全国...

年份

  • 2篇2009
  • 9篇2007
  • 2篇2006
  • 2篇2005
15 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
高能球磨制备0.3BiFeO_3—0.7SrBi_2Nb_2O_9陶瓷及其介电性能研究
2007年
采用高能球磨制备0.3BiFeO_3-0.7SrBi_2Nb_2O_9陶瓷.利用XRD和SEM分析球磨时间对粉体物相结构及微观形貌的影响.结果表明:随球磨时间的增加,粉体结晶度提高,颗粒不断细化,但在22.62°处有杂峰出现,经700℃退火杂峰消失.高能球磨制备的陶瓷的介电常数较传统固相反应制备的陶瓷提高30左右.
谢艳顾豪爽胡明哲张凯
关键词:高能球磨微观形貌介电常数
基于AlN压电层的薄膜体声波谐振器
以AlN薄膜为压电层,采用体硅微细加工工艺制备了背空腔型结构薄膜体声波谐振器.材料测试结果表明,在优化溅射工艺下沉积的AlN薄膜具有(002)择优取向及良好的柱状晶结构.扫描电镜表征证实所制得空腔背部平滑且各向异性较好....
胡光张凯叶芸吴雯刘婵顾豪爽
关键词:薄膜体声波谐振器氮化铝空腔ALN薄膜
文献传递
1.6 GHz薄膜体声波谐振器研究被引量:1
2009年
AlN材料具有良好的压电特性和很高的声波速度,是制作性能优良薄膜体声波器件的首选材料之一。对氮化铝薄膜体声波谐振器原理进行了分析,探讨了氮化铝薄膜体声波谐振器的设计方法,在制备高c-轴取向氮化铝薄膜的基础上,通过上电极和氮化铝薄膜一次光刻两步刻蚀工艺方法制作了1.6 GHz氮化铝薄膜体声波谐振器,并探讨了谐振器的频率影响因素。
胡靖华孙晓冬张凯张小玲胡光顾豪爽
关键词:薄膜体声波谐振器
AlN薄膜腔声谐振器的制备及性能研究被引量:1
2007年
采用体硅微细加工工艺制备了基于AlN压电材料的薄膜腔声谐振器,研究了器件结构中谐振区形状和面积对谐振器性能的影响。以X射线衍射仪、扫描电镜表征了AlN压电薄膜的结构及形貌,高频网络分析仪表征谐振器频率特性。测试结果表明,谐振器所用AlN压电薄膜具有C轴择优取向及良好的柱状晶结构;器件频率特性良好,谐振频率达1.759GHz,机电耦合系数3.75%,品质因数79.5。通过研究不同谐振区形状、面积谐振器的性能,明确了结构因素对器件频率特性的影响,分析了其中的机制。
胡宽顾豪爽张凯胡光吴小鹏熊娟
关键词:薄膜腔声谐振器频率特性
AlN薄膜腔声谐振器的制备及性能研究
采用体硅微细加工工艺制备了基于AlN压电材料的薄膜腔声谐振器,研究了器件结构中谐振区形状和面积对谐振器性能的影响。以X射线衍射仪、扫描电镜表征了AlN压电薄膜的结构及形貌,高频网络分析仪表征谐振器频率特性。测试结果表明,...
胡宽顾豪爽张凯胡光吴小鹏熊娟
关键词:薄膜腔声谐振器谐振频率
文献传递
AlN薄膜体声波谐振器性能分析被引量:1
2007年
采用体硅微细加工工艺制备了背空腔型AlN薄膜体声波谐振器。研究了压电层、上电极及支撑层厚度对谐振器性能的影响。测试结果表明,谐振器所用AlN压电薄膜具有(002)择优取向,器件频率特性良好。当上电极、压电层、底电极和支持层的厚度分别为110,2600,110,200nm时,谐振频率为1.759GHz,机电耦合系数3.75%,品质因数79.5。结合Mason等效电路模型模拟分析与实验结果,分析了各层厚度对频率特性的影响机理。
胡光顾豪爽张凯胡宽吴小鹏
关键词:电子技术薄膜体声波谐振器氮化铝
C轴择优取向AlN薄膜的制备研究被引量:1
2005年
采用直流磁控反应溅射法制备AlN薄膜.研究了靶基距、衬底温度和电极材料对AlN薄膜择优取向的影响.用XRD、AFM表征了AlN薄膜的结构、表面形貌.结果表明衬底温度为300℃、靶基距为3cm,在Pt电极上可沉积高质量的C轴择优取向AlN薄膜.
李位勇张凯徐丹丹陈丽丽顾豪爽
关键词:ALN薄膜直流磁控反应溅射
磁控溅射氮化铝薄膜取向生长工艺研究被引量:1
2009年
氮化铝薄膜取向性直接影响到薄膜的压电特性和声波速度,是薄膜体声波谐振器/滤波器工艺过程中最重要的环节之一。对AlN薄膜材料的反应磁控溅射沉积工艺进行了研究,通过对AlN薄膜的取向性分析及其与工艺条件的比较,优化了取向性AlN薄膜的生长工艺条件,制备出了高取向和高致密的AlN薄膜。
张小玲孙晓冬张凯胡光胡靖华顾豪爽
关键词:氮化铝取向性反应磁控溅射
基于AlN压电层的薄膜体声波谐振器被引量:1
2007年
以AlN薄膜为压电层,采用体硅微细加工工艺制备背空腔型结构薄膜体声波谐振器.材料测试结果表明,在优化溅射工艺下沉积的AlN薄膜具有(002)择优取向及良好的柱状晶结构.扫描电镜表征结果证实所制得空腔背部平滑且各向异性较好.用网络分析仪测试可知,所制得的谐振器具有较好的频率特性:谐振频率为2.537 GHz,机电耦合系数3.75%,串、并联品质因数分别为101.8、79.7.
叶芸吴雯刘婵胡光张凯顾豪爽
关键词:薄膜体声波谐振器氮化铝空腔
C轴择优取向AlN薄膜的制备研究
采用直流磁控反应溅射法制备AlN薄膜.研究了靶基距、衬底温度和电极材料对AlN薄膜择优取向的影响.用XRD、AFFM表征了AlN薄膜的结构、表面形貌.结果表明衬底温度为300℃、靶基距为3cm,在Pt电极上可沉积高质量的...
李位勇张凯徐丹丹陈丽丽顾豪爽
关键词:ALN薄膜衬底温度表面形貌
文献传递
共2页<12>
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