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王云翔

作品数：1 被引量：5H指数：1
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇掩模
  • 1篇移相掩模
  • 1篇移相掩模技术
  • 1篇交替式
  • 1篇光刻
  • 1篇分辨率

机构

  • 1篇中国科学院微...

作者

  • 1篇陆晶
  • 1篇陈宝钦
  • 1篇李泠
  • 1篇龙世兵
  • 1篇刘明
  • 1篇王云翔

传媒

  • 1篇微细加工技术

年份

  • 1篇2003
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
100nm分辨率的移相掩模技术被引量：5
2003年
介绍了移相掩模技术的基本原理,对几种主要的移相掩模技术进行了比较,指出了各种移相方式的特点和应用局限性,并针对100nm分辨率的技术节点,阐述了各种移相方式在应用中应该解决的问题。
陆晶陈宝钦刘明王云翔龙世兵李泠
关键词：分辨率移相掩模光刻交替式
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共1页<1>
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