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陆晶

作品数：7 被引量：7H指数：2
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龙世兵
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 电极 浮栅 非挥发性 电子束直写
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘明
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 电极 衬底 电子束光刻 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈宝钦
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束曝光 电子束直写 抗蚀剂 电子束
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
任黎明
供职机构：北京大学
研究主题：石墨烯 金属 纳电子学 电子束曝光 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李泠
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 晶体管 电极 介质层 沟道
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汤跃科
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：数据格式转换 微光刻技术 电子束直写 CIF格式 光学
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
薛丽君
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：电子束直写 ALGAN/GAN_HEMT 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张立辉
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：单电子晶体管 电子束直写 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛洁斌
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束曝光 衬底 电子束直写 衍射光栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李金儒
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：数据格式转换 CIF格式 电子束直写 微光刻技术 CIF
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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