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陆晶

作品数:3 被引量:7H指数:2
供职机构:中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室更多>>
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刘明
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:存储器 电极 衬底 电子束光刻 介质层
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陈宝钦
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 电子束曝光 电子束直写 抗蚀剂 电子束
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李泠
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:存储器 晶体管 电极 介质层 沟道
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
龙世兵
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:存储器 电极 浮栅 非挥发性 电子束直写
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王云翔
供职机构:中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题:移相掩模技术 移相掩模 分辨率 光刻 交替式
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康晓辉
供职机构:中国科学院
研究主题:掩模制作 铬 集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
叶甜春
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:X射线光刻 沟道 半导体器件 版图 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈大鹏
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:半导体器件 刻蚀 MEMS 沟道 焦平面阵列
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谢常青
供职机构:中国科学院
研究主题:LPCVD 掩模制作 铬 X射线光刻掩模 X射线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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