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朱樟震

作品数:3 被引量:2H指数:1
供职机构:中国科学院高能物理研究所更多>>
相关领域:电子电信理学机械工程更多>>

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地区

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7 条 记 录,以下是 1-7
陈梦真
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:X射线光刻 光刻 掩模 光刻胶 集成电路
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孙宝银
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氮化硅薄膜 LPCVD X射线光刻 氮化硅 可见光发射
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谢常青
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 X射线光刻 敏感膜 存储器 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵玲莉
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:LPCVD X射线光刻 氮化硅 氮化硅薄膜 可见光发射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
伊福廷
供职机构:中国科学院高能物理研究所
研究主题:LIGA技术 光刻 LIGA 微细加工 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩敬东
供职机构:中国科学院
研究主题:X射线光刻 LPCVD 氮化硅 掩模 氮化硅膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张菊芳
供职机构:中国科学院高能物理研究所
研究主题:LIGA技术 微细加工 LIGA 掩模 电火花加工
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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