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王春梅

作品数：3 被引量：2H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺更多>>

合作作者

领域

  • 4个电子电信
  • 3个金属学及工艺
  • 2个理学
  • 1个化学工程
  • 1个冶金工程
  • 1个电气工程
  • 1个自动化与计算...

主题

  • 4个单晶
  • 4个砷化镓
  • 4个砷化镓单晶
  • 4个晶向
  • 4个硅片
  • 4个GAAS单晶
  • 3个硼扩散
  • 3个染色
  • 3个染色液
  • 3个扩散
  • 2个电学
  • 2个电阻率
  • 2个载流子
  • 2个载流子寿命
  • 2个锗单晶
  • 2个直拉硅
  • 2个直拉硅单晶
  • 2个少数载流子
  • 2个少数载流子寿...
  • 2个少子寿命

机构

  • 4个中国电子科技...
  • 1个中电集团
  • 1个中国电子科技...
  • 1个信息产业部

资助

  • 1个国防基础科研...
  • 1个国家部委资助...

传媒

  • 4个半导体技术
  • 4个电子工业专用...
  • 2个天津科技
  • 2个第十四届全国...
  • 1个电子工艺技术
  • 1个合肥工业大学...
  • 1个工业计量
  • 1个电子元件与材...
  • 1个第十三届全国...

地区

  • 3个天津市
  • 1个北京市
共 4 条 记 录，以下是 1-4
佟丽英
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 抛光片 电阻率 硅单晶 少子寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
史继祥
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：少子寿命 电阻率 硼 晶向 Γ辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王聪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硼 扩散 AL 染色液 P
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨春明
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：超声波清洗 硅片 单晶硅 晶片 磨料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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