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陈威

作品数：10 被引量：11H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
发文基金：国家科技重大专项更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术建筑科学更多>>

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领域

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传媒

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  • 1个清洗世界
  • 1个城市建设（下...
共 17 条 记 录，以下是 1-10
柳滨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 抛光液 半导体材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 CMP设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 IC 300MM硅片 SOLIDWORKS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈波
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP CMP设备 大盘 温度 水压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王铮
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP技术 氮化镓 化学机械抛光 晶片 抛光工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭强生
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：粘片机 集成电路 视觉检测 发光二极管 伺服控制系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王文丽
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：超声波 硅片 清洗工艺 湿法清洗 声波
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨师
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 集成电路 SEMI 半导体制造设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周国安
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 化学机械抛光 抛光液 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
潘峰
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：键合机 全自动 键合 调试方法 上下料机构
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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