胡勇 作品数:7 被引量:21 H指数:3 供职机构: 中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室 更多>> 发文基金: 国家重点基础研究发展计划 国家自然科学基金 更多>> 相关领域: 电子电信 自动化与计算机技术 轻工技术与工程 更多>>
基于CMOS的RFIC的发展现状 被引量:11 2002年 目前 ,射频电路存在广阔的市场 ,成为无线通信领域内研究的热点之一。文章主要介绍了基于 黄广宇 胡勇 杨旭 陈守顺 朱亚江关键词:射频集成电路 低噪声放大器 功率放大器 压控振荡器 复杂掩模图数据处理与转换的研究 被引量:3 2012年 将数字图像处理理论和算法引入到掩模版图数据处理与转换系统中,开发了相应的数据处理与转换软件模块。实现了bmp图像文件的输入、图像的灰度量化、对比度拉伸、反转、边缘检测、多边形近似及版图文件的输出。实验结果证明,该软件能将含有较复杂图形的bmp文件成功地转换为GDSII版图文件。 赵珉 汤跃科 陈宝钦 李金儒 胡勇关键词:图像处理 数据转换 BMP文件 光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术 中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室拥有一个由美国GCA3600F图形发生器、GCA3696分步重复精缩机、日本JEOLJBX6AⅡ电子束曝光系统和JEOLJBX5000LS电子束光刻系统及美国应用材料公司捐赠... 陈宝钦 任黎明 胡勇 龙世兵 陆晶 杨清华 张立辉 牛洁斌 刘明 徐秋霞 薛丽君 李金儒 汤跃科 赵珉 刘珠明 王德强关键词:微光刻技术 电子束直写 文献传递 光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术 被引量:4 2006年 介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术,包括:(1)光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术;(2)投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术;(3)接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术;(4)大小束流混合曝光技术或大小光阑混合曝光技术;(5)电子束与光学曝光系统混合光刻对准标记制作技术.该技术已成功地应用于纳米器件和集成电路的研制工作,实现了20nm线条曝光,研制成功了27n m CMOS器件;进行了50nm单电子器件的演试;并广泛地用于100nm化合物器件和其他微/纳米结构的制造. 陈宝钦 刘明 徐秋霞 薛丽君 李金儒 汤跃科 赵珉 刘珠明 王德强 任黎明 胡勇 龙世兵 陆晶 杨清华 张立辉 牛洁斌关键词:微光刻技术 电子束直写 微光刻图形处理及数据格式转换 该论文对微光刻领域中一些常用图形的生成方法和图形处理技术以及数据文件格式转换技术进行了研究并开发出一套实用化很强的图形处理软件.包括如下五个部分:实现微光刻图形处理和数据格式转换的途径的分析.微光刻常见图形生成器的开发.... 胡勇关键词:文件格式转换 图形绘制 微光刻技术 复杂微光刻图形版图设计系统 被引量:5 2002年 介绍了一种自主开发的复杂微光刻图形版图绘制系统。该系统能根据用户的要求自动成组地批处理各种圆环、螺旋线、椭圆环、扇形、条形码等图形 ,以及根据用户输入的任意表达式来生成特殊形状图形 ,同时它具有方便的图形形态处理功能 ,包括图形任意角度的旋转、旋转拷贝功能 ;重叠图形和回字图形挖空并加辅助线功能 ;位图格式图形轮廓化处理功能及图形切割、切块功能等。该系统极大地提高了目前集成电路版图设计工具软件绘图功能 ,使其更能适用于微电子、微光学、微机电系统等微光刻领域的复杂图形设计 ,是一种实用性很强的软件模块。 胡勇 黄广宇 陈宝钦 李友微光刻苦技术数据处理及数据转换体系 本文重点介绍微光刻技术图形数据处理及数据转换体系.包括微光刻技术需要处理的图形数据类型,常用的图形数据处理及图形编辑软件,特殊图形数据处理技术,常用的图形数据格式及数据格式转换技术. 陈宝钦 胡勇 刘明 任黎明 李友 张建宏 张卫红关键词:微光刻 光掩模 数据处理 文献传递