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陆晶

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院微电子中心更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇国内会议论文

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇电子束
  • 1篇电子束曝光
  • 1篇电子束曝光机
  • 1篇掩模
  • 1篇移相
  • 1篇移相掩模
  • 1篇曝光机
  • 1篇去除技术
  • 1篇线条

机构

  • 2篇中国科学院微...

作者

  • 2篇陈宝钦
  • 2篇陆晶
  • 2篇刘明
  • 1篇牛洁斌
  • 1篇张建宏

传媒

  • 2篇第十二届全国...

年份

  • 2篇2003
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
移相掩模曝光中多余线条的去除技术
移相掩模曝光中,尤其是全透明移相掩模或亮场的交替和全透明混合移相掩模曝光时必然会产生多余的线条情况,如何在移相掩模曝光中去除多余的线条是移相掩模实用化中很重要的问题.本文重点介绍移相掩模的基本原理,分析亮场的交替和无铬全...
陆晶陈宝钦刘明
文献传递
可变矩形束电子曝光机电子束形态的精确修正
本文重点介绍利用可变矩形束电子束曝光机精确制版中间掩模板或在硅片上直写图形时,如何通过校准子程序对电子束的形态及位置进行调整,使制版的精度要求得到保证.经过调整,使电子束扫描场的拼接精度和旋转精度获得明显提高,同时还可以...
张建宏陆晶陈宝钦刘明牛洁斌
关键词：电子束曝光机
文献传递
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