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胡勇

作品数：7 被引量：21H指数：3
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室更多>>
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陈宝钦
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束曝光 电子束直写 抗蚀剂 电子束
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李金儒
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：数据格式转换 CIF格式 电子束直写 微光刻技术 CIF
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
汤跃科
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：数据格式转换 微光刻技术 电子束直写 CIF格式 光学
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
任黎明
供职机构：北京大学
研究主题：石墨烯 金属 纳电子学 电子束曝光 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵珉
供职机构：湛江师范学院信息科学与技术学院
研究主题：电子束光刻 电子束直写 电子束曝光 抗蚀剂 电子束抗蚀剂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘明
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 电极 衬底 电子束光刻 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄广宇
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：CMOS RFIC 压控振荡器 功率放大器 射频集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
薛丽君
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：电子束直写 ALGAN/GAN_HEMT 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王德强
供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
研究主题：X射线光刻 波带片 X射线 电子束 电子束直写
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘珠明
供职机构：中国科学院电工研究所
研究主题：热反射 电子束曝光机 热光伏电池 光学 微光刻技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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