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汤跃科
作品数:
9
被引量:9
H指数:2
供职机构:
中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
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发文基金:
国家重点基础研究发展计划
国家自然科学基金
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相关领域:
电子电信
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合作作者
陈宝钦
中国科学院微电子研究所纳米加工...
李金儒
中国科学院微电子研究所纳米加工...
赵珉
湛江师范学院信息科学与技术学院
薛丽君
中国科学院微电子研究所纳米加工...
胡勇
中国科学院微电子研究所纳米加工...
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李金儒
供职机构:中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题:数据格式转换 CIF格式 电子束直写 微光刻技术 CIF
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陈宝钦
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束光刻 电子束直写 电子束曝光 抗蚀剂 电子束
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薛丽君
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束直写 ALGAN/GAN_HEMT 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
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赵珉
供职机构:湛江师范学院信息科学与技术学院
研究主题:电子束光刻 电子束直写 电子束曝光 抗蚀剂 电子束抗蚀剂
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任黎明
供职机构:北京大学
研究主题:石墨烯 金属 纳电子学 电子束曝光 光刻胶
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陆晶
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束直写 电子束光刻 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
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胡勇
供职机构:中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题:微光刻技术 光学 电子束直写 电子束曝光系统 数据处理
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王德强
供职机构:中国工程物理研究院激光聚变研究中心
研究主题:X射线光刻 波带片 X射线 电子束 电子束直写
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龙世兵
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:存储器 电极 浮栅 非挥发性 电子束直写
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张立辉
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:电子束直写 单电子晶体管 光学 微光刻技术 电子束曝光系统
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