王冠亚
- 作品数：25 被引量：4H指数：1
- 供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金应用光学国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学文化科学自动化与计算机技术更多>>
- 一种增强光学掩模分辨率及制造高分辨率光学掩模的方法
- 本发明公开了一种增强光学掩模分辨率的方法，在普通光学掩模的某些特定透光区域减少一层透明介质层，光波透过这层特殊介质的相位恰好与相邻透光区的透射光的相位相反，这两个区域的光，由原来的相加干涉变为了相消干涉，从而提高了光学掩...
- 龙世兵刘明陈宝钦谢常青李友李新涛张建宏张卫红王冠亚谢文妞
- 文献传递
- 大高宽比硬X射线波带片制作及聚焦测试被引量：4
- 2017年
- 为得到同步辐射光源硬X射线波段(>2keV)需要的高宽比高分辨率波带片,本文利用高加速电压(100kV)电子束光刻配合Si3N4镂空薄膜直写来减少背散射的方法,对硬X射线波带片制作技术进行了蒙特卡洛模拟和电子束光刻实验。模拟结果显示:Si_3N_4镂空薄膜衬底可以有效降低电子在抗蚀剂中传播时的背散射,进而改善高密度大高宽比容易引起的结构倒塌和粘连问题。通过调整电子束的曝光剂量,在500nm厚的镂空Si_3N_4薄膜衬底上制备出最外环宽度为150nm、金吸收体的厚度为1.6μm,高宽比大于10的硬X射线波带片。同时,引入随机支撑点结构,实现了波带片结构自支撑,提高了大高宽比波带片的稳定性。将利用该工艺制作的波带片在北京同步辐射装置X射线成像4W1A束线8keV能量下进行了聚焦测试,得到清晰的聚焦结果。
- 李海亮史丽娜牛洁斌牛洁斌王冠亚
- 关键词：电子束光刻电子束光刻
- ICP刻蚀技术在微细加工中的应用
- 电感耦合等离子体干法刻蚀技术(ICP)以其高密度高能量和刻蚀各向异性的特点越来越多的在微细加工领域被应用,微电子中心凭借在设备和工艺研发上的优势,在该领域进行了许多深入的研究和探索,并且用ICP干法刻蚀技术制备了EUV透...
- 李兵刘辉陈大鹏谢常青王玮冰王冠亚胥兴才陈朝晖叶甜春
- 关键词：ICPX射线光刻EUVRIE刻蚀技术
- 文献传递
- 微电子机械系统电可调谐光学滤波器芯片制备方法
- 一种微电子机械系统(MEMS)电可调谐光学滤波器芯片的制备方法，包括步骤：1、在硅基片表面上光刻出下电极图形；2、蒸发铬/金薄膜；3、超声剥离；4、淀积二氧化硅牺牲层；5、光刻腐蚀隔离槽图形；6、蒸发铬作为掩蔽层；7、超...
- 欧毅陈大鹏孙雨南崔芳王冠亚刘辉
- 文献传递
- 图形化装置及其使用方法
- 本发明公开了一种图形化装置及其使用方法，所述图形化装置包括：探针，用于配合腐蚀液在衬底表面形成预设图形，其中，在腐蚀液环境中，探针与衬底表面接触后，衬底的接触部分被溶解；以及探针驱动装置，用于驱动探针沿所述预设图形的轨迹...
- 李海亮牛洁斌王冠亚朱效立谢常青叶甜春
- 文献传递
- 基于全电场控制磁畴壁运动的可重构PUF器件
- 本发明公开了基于全电场控制磁畴壁运动的可重构PUF器件，包括：压控层、上电极、下电极、反铁磁钉扎层以及磁隧道结MTJ；而MTJ包括：由下至上的铁磁参考层、势垒隧穿层以及铁磁自由层；在该器件中，通过在压控层通入电压控制磁各...
- 邢国忠林淮王迪刘龙张凯平王冠亚王艳许晓欣刘明
- 一种纳米柱传感器、折射率检测装置及方法
- 本申请公开一种纳米柱传感器、折射率检测装置及方法，所述纳米柱传感器包括：衬底、设置在所述衬底上的多个传感单元；所述多个传感单元在所述衬底上以预设间隔周期分布；所述多个传感单元中的每个传感单元包括多个纳米柱；其中，入射光照...
- 刘子维史丽娜浦探超牛洁斌李海亮王冠亚谢常青刘明
- 一种相位型衍射光栅
- 本发明涉及衍射光栅技术领域，尤其涉及一种相位型衍射光栅，包括：薄膜衬底；所述薄膜衬底上均匀开设的形状和尺寸相同的多个栅孔，其中，所述多个栅孔在所述薄膜衬底上呈规则阵列排布；所述多个栅孔呈规则阵列排布时的横向周期为P<Su...
- 刘子维浦探超史丽娜谢常青牛洁斌王冠亚李海亮刘明
- 文献传递
- 图形化装置及其使用方法
- 本发明公开了一种图形化装置及其使用方法，所述图形化装置包括：基板层；设置于所述基板层上的薄膜层；以及设置于所述薄膜层上的图形模板层，所述图形模板层包括凸出的图形结构，所述图形结构用于配合腐蚀液在衬底表面形成预设图形，其中...
- 李海亮牛洁斌王冠亚朱效立谢常青叶甜春
- 文献传递
- 掩模版和光刻方法
- 一种掩模版，在掩模版衬底上具有掩模图形、对准标记、辅助图形，其中，所述辅助图形为二维码。依照本发明的掩模版及其光刻方法，通过在掩模版边缘部分形成快速、简便、低成本的辅助图形解决了掩模版图形信息记录不全，版面图形凌乱等问题...
- 王冠亚
- 文献传递
