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史继祥

作品数：9 被引量：18H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信理学金属学及工艺冶金工程更多>>

合作作者

领域

  • 19个电子电信
  • 12个理学
  • 5个金属学及工艺
  • 3个化学工程
  • 3个冶金工程
  • 3个机械工程
  • 3个电气工程
  • 2个自动化与计算...
  • 2个一般工业技术
  • 1个动力工程及工...
  • 1个交通运输工程
  • 1个文化科学

主题

  • 17个单晶
  • 11个硅单晶
  • 9个晶向
  • 8个锗单晶
  • 7个少子寿命
  • 7个抗辐照
  • 7个抗辐照加固
  • 7个硅片
  • 7个辐照加固
  • 6个单晶生长
  • 6个载流子
  • 6个载流子寿命
  • 6个少数载流子
  • 6个少数载流子寿...
  • 6个禁带
  • 6个禁带宽度
  • 6个光注入
  • 5个单晶片
  • 5个砷化镓
  • 4个单晶炉

机构

  • 20个中国电子科技...
  • 4个中国电子科技...
  • 2个天津大学
  • 1个河北工业大学
  • 1个中电集团
  • 1个电子部
  • 1个信息产业部
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 4个国家部委资助...
  • 3个天津市自然科...
  • 2个国家自然科学...
  • 1个国防基础科研...
  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家科技部专...
  • 1个河北省自然科...

传媒

  • 16个半导体技术
  • 16个电子工业专用...
  • 10个天津科技
  • 7个第十三届全国...
  • 4个电子工艺技术
  • 3个第十四届全国...
  • 2个Journa...
  • 2个工业计量
  • 2个人工晶体学报
  • 2个微纳电子技术
  • 2个第十五届全国...
  • 1个燃烧科学与技...
  • 1个车用发动机
  • 1个工程塑料应用
  • 1个实验力学
  • 1个合肥工业大学...
  • 1个现代塑料加工...
  • 1个内燃机工程
  • 1个天津大学学报...
  • 1个电源技术

地区

  • 18个天津市
  • 2个北京市
共 20 条 记 录，以下是 1-10
佟丽英
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 抛光片 电阻率 硅单晶 少子寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王聪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硼 扩散 AL 染色液 P
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王春梅
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硼 GAAS单晶 晶向 硼扩散 砷化镓单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张继荣
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅单晶 电阻率 少子寿命 DLY 校准方法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王俭峰
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：LPCVD TEOS 二氧化硅薄膜 均匀性 淀积速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王世援
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅单晶 碳 碳复合材料 掺磷 硅单晶生长
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨春明
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅片 单晶硅 磨料 粒径分布 线切割
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李丹
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：汽油机 滚流 硅单晶 进气道 缸内
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
索开南
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：区熔 少子寿命 硅 区熔硅单晶 SI单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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共2页<12>
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